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DPSS
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ns laser
EV10/EV10G
- Wafer marking, photovoltaic scribing 등 안정성이 요구되는 laser 응용 및 범용 laser marking에 적용할 목적으로 제작 된 모델입니다. Diode pumped solid-state laser로써 종방향 펌핑(End-pumping) 방식을 채택하여 소형화가 가능하고 광자 효율이 높습니다. 또한 안정된 출력과 긴 수명의 장점이 있습니다.
공냉방식을 통한 간편성을 추구하여 장비 구축 시에도 다양한 핸들러와 적용라인에 적용하기 쉽도록 제작하였습니다.
V20/V20G/V30
- 차세대 레이저 마킹 기술을 적용하여 고속의 마킹, 식각, 에칭 작업에 탁월한 성능을 발휘합니다.
특히 green 마커는 LED package 마킹에 적합하며 초소형 마킹 가능한 최적의 솔루션을 제공합니다.
LV100/LV150
LV100G/LV150G
- 고체 기반 End-pumped 방식의 고품질, 고출력 및 높은 첨두출력을 가지는 ns 레이저입니다.
- LV100G와 LV100은 각각 green과 UV 파장대를 제공하며, metal 및 반도체 cutting. PCB drilling 장비에 적용 가능합니다.
LEO180n
- 광섬유와 고체 레이저 기술을 접목한 하이브리드 타입의 고품질, 고출력 레이저
- 적외선 파장뿐 아니라 고출력의 가시광/자외선 파장도 제공이 가능하며, 펄스 제어기술을 통해 최상의 가공품질 확보
- 높은 출력 안정성 및 수 백 kHz의 고반복률 동작으로 고속 미세가공 응용에 적합
i200/i400/i1000
- 고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 1,064㎚ 파장에서 200~1,000W까지의 모델이 있습니다.
또한 검증된 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 시스템은 OEM 장비 및 산업용 애플리케이션에 적합합니다.
g200/g400
- 고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 532㎚ 파장에서의 높은 평균 출력 및 에너지를 제공합니다.
또한 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 시스템은 산업용 애플리케이션에 적합한 플랫폼을 제공할 수 있습니다.
u40/u80
- 고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 355㎚ 파장에서 최대 180W의 높은 출력을 제공합니다.
또한 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 방식은 산업용 애플리케이션에 적합한 플랫폼을 제공할 수 있습니다.
ps laser
ESL series
(ESL016/020/050/100)
- 15ps 이하의 짧은 펄스폭을 갖는 피코초 레이저로써 10~100W의 출력을 가지는 모델
- 파장 가변 기능을 통해 적외선부터 자외선까지 가공에 적합한 파장대를 제공
- 안정적인 레이저 출력과 펄스 제어기술을 통해 최상의 가공 품질을 보장합니다.
fs laser
LEO10f
- 광섬유 기반의 10W급, 400fs 이하의 펄스폭을 가지는 펨토초 레이저
- 높은 첨두 출력으로 비열, 초미세 가공 프로세스가 가능
- 적외선, 가시광선 및 자외선 파장으로 파장 가변이 가능하여 다양한 애플리케이션에 적용할 수 있습니다.
