Japanese
DPSS
HOME > Products > Laser > DPSS
ns laser
EV10/EV10G
- Wafer marking、photovoltaic scribingなど、安定性が求められるlaserアプリケーションと汎用laser markingに適用する目的で開発されたモデルです。
Diode pumped solid-state laserであり、縦方向ポンピング（End-pumping）方式を採用して小型化が可能であり、光子効率が高いです。
また、安定した出力と長寿命の利点があります。空冷による便利性を追求し、装置を構成する時、多様なハンドラとラインに適用しやすいように開発しました。
V20/V20G/V30
- 次世代レーザーマーキング技術を適用して、高速のマーキング、エッチング作業に優れた性能を発揮します。特にgreenマーカーはLED packageマーキングに適しており、超小型マーキングが可能で、最適のソリューションを提供しています。
LV100/LV150
LV100G/LV150G
- 固体ベースのend-pumped方式の高品質、高出力、高ピーク出力を持つnsレーザーです。
- LV100GとLV100は、それぞれgreenとUV波長帯を提供し、metalと半導体cutting、PCB drillingなどの装置に適用可能です。
LEO180n
- 光ファイバと固体レーザーの技術を組み合わせたハイブリッドタイプの高品質、高出力のレーザー。
- 赤外線の波長だけでなく、高出力の可視光/紫外線の波長も提供可能であり、パルス制御技術により、最高加工品質を確保。
- 高出力の安定性と数百kHzの高い繰り返し率の動作で、高速微細加工アプリケーションに適しています。
i200/i400/i1000
- 固体ベースのダイオード励起方式レーザで、1,064㎚波長の400〜3,200Wまでのモデルがあります。
最大3kW以上のピークパワーを提供しています。また、検証された頑丈なヘッドデザインとカスタマイズ制御システムは、OEM機器や産業用アプリケーションに適しています。
g200/g400
- 固体ベースのダイオード励起方式レーザで、532㎚波長での高い平均出力とエネルギーを提供します。
頑丈ななヘッドデザインとカスタマイズ制御システムは、産業用アプリケーションに理想的に適したプラットフォームを提供しています。
u40/u80
- 固体ベースのダイオード励起方式レーザで、355㎚波長の最大180Wの高出力が提供可能です。
また、頑丈なヘッドデザインとカスタマイズ制御方式は、産業用アプリケーションに理想的に適したプラットフォームを提供しています。
ps laser
ESL series
(ESL016/020/050/100)
- 15ps以下の短いパルス幅を持つピコ秒レーザーとして10〜100Wの出力を持つモデルです。
- 波長可変機能により、赤外線から紫外線まで、加工に適した波長を提供します。
- 安定したレーザ出力とパルス制御技術により、最高の加工品質を保証します。
fs laser
LEO10f
- 光ファイバベースの10W級、400fs以下のパルス幅を持つフェムト秒レーザー。
- 高いピーク出力に微熱、超微細加工プロセスが可能。
- 赤外線、可視光線、紫外線の波長に波長可変が可能で、様々なアプリケーションに適用することができます。
